摘要: 近几十年来，薄膜材料和薄膜技术发展迅速。各种新型薄膜材料、薄膜生产和微加 工技术的创新，在高新技术应用中的各种薄膜也变得越来越受欢迎。本文总结了 CdO 薄膜 的各项性质以及列举了 CdO 薄膜的制备方法，同时对 CdO 薄膜的研究进展和应用进行了比 较详细的总结。在这基础之上，本文采用脉冲激光沉积技术制备了透明导电的 CdO 薄膜， 并且研究了不同参数对 CdO 薄膜的性能的影响。 90534

毕业论文关键词:CdO 薄膜，金属薄膜，透明导电氧化物薄膜，脉冲激光沉积技术 

Abstract: In recent decades, thin film materials and thin film technology is developing  rapidly。 A variety of new thin film materials, film production and micro machining technology innovation, as well as various films applied in high and new technology have become more and more popular。 In this paper, the properties of CdO thin films are summarized, and the preparation methods of CdO thin films are listed。 At the same time, the research progress and application of CdO thin films are summarized in detail。 On this basis, the transparent conductive CdO thin films were prepared by Pulse laser deposition, and the effects of different parameters on the properties of CdO thin films are investigated。

Keywords: CdO thin film, metal film, transparent conductive oxide film, Pulse laser deposition

目 录

1 引言 4

1。1 CdO 薄膜的基本性能 4

1。2 CdO 薄膜的制备方法 5

2 近年来 CdO 薄膜的研究进展和应用 7

2。1 CdO 薄膜的掺杂 7

2。2 CdO 薄膜的应用前景 8

3 实验内容 8

3。1 实验设备 8

3。2 实验材料 9

3。3 实验方案 9

4 不同 In 含量的 In-CdO 薄膜结构及光电性能 10

4。1 In-CdO 薄膜的结构分析 10

4。2 In-CdO 薄膜的光学性能分析 11

4。3 In-CdO 薄膜的电学性能分析 12

结 论 15

参 考 文 献 16

致 谢 17

1 引言 

近年来，随着现代科学技术的快速进步，传统材料已不能满足现代科技的需求。人们 变得更多地关注起新型材料，薄膜材料就是其中之一。这也促进了各种的薄膜制备技术的 产生与发展。薄膜材料主要是以各种体材料为基体，在其表面会沉积成一层新物质，但这 种新的物质层的性能与体材料完全不一样。透明导电薄膜(简称 TCF)是一种兼备透光性和 导电性的材料，被广泛应平面显示器和智能玻璃等领域[1]。柔性 TCF 因其弯折性好、质量 轻和不易碎等优点受到了极大关注[2-3]。当前，n 型透明导电氧化物(n- TCOs)，比如说 ZnO， CdO，InO，SnO2，ITO 以及 p 型透明导电氧化物(p-TCOs ),因它们在光电太阳能气体传感器 和其它的光电子器件等领域具有非常重要的应用空间[4],而受到了极大的关注度。在这些透 明导电氧化物当中，氧化镉具有较低的电阻率和较高的载流子浓度，使它们在光电子器件 中具有广阔的应用空间。 文献综述