3) 对于长平晶，由于其有表示受检点的十字刻线，需要对十字刻线之间的距离进行检定，按照规程，应使用万能工具显微镜进行检定，从零位十字刻线至其他各十字刻线的距离对标称尺寸的偏差应不大于0.1mm，两端十字刻线距端面的距离对标称尺寸的偏差应不大于0.2mm，十字刻线位置应对称。

4) 长平晶除了需要检定其检定点的平面度，还需要利用60mm口径的一级平晶对其横向40mm内的平面度进行检定。

5) 对于新制造和修理后的长平晶需要检定其自重变形量，修理后的长平晶需要根据修理后的实际厚度修正其自重变形量。

2.1.3  绝对检验方法

绝对检验方法包括三面互检和四面互检，优点是不需要标准平晶，但其问题是需要处理的数据量较大。对于长平晶来说，只需检测其一个截面[1]。

三面互检法：

三面互检是指将三块材料、外形尺寸及精度等级相同的被检平晶，按I-II、I-III、II-III三种配合相互组合检验，并读出各对平晶的平面度偏差值a1、a2、a3。设第一块平晶被检截面上的平面度偏差值为x，第二块平晶被检截面上的平面度偏差值为y，第三块平晶被检截面上的平面度偏差值为z。则：

                                                      （2-1）          

每块平晶的平面度偏差由公式（2-2）求出：

                                                  （2-2）       

四面互检法：

四面互检与三面互检相类似，四块平晶依次组合6次，即按I-II、I-III、I-IV、II-III、II-IV、III-IV配合互相组合检验，并读出各对平晶的平面度偏差值a1、a2、a3、a4、a5、a6，按照三面互检法的步骤进行处理，即：

                                                      （2-3）     

每块平晶的平面度偏差按照公式（2-4）计算：

                                  （2-4）  

三面互检和四面互检都需要在等倾或者等厚干涉仪上进行。

2.2  检定仪器

2.2.1  等倾干涉

等倾干涉基本原理：

图2-2等倾干涉原理图                       图2-3等倾干涉条纹

如图2-2所示，扩展光源SS1发出的光，以不同的角度入射到平板上表面和下表面，从上表面反射的光与从下表面反射返回来的光干涉，透镜DE将平板两个表面反射回的光线汇聚到屏P上，这样就产生了等倾干涉条纹。这时可以观察到，那些以相同的角度入射的光在进过了透镜之后汇聚到了同一位置，也就是说，如果光线入射的角度相同的就在屏上形成同一条纹。当角度改变时，其光程差也相应发生改变，其条纹位置也发生改变，条纹的形状为明暗相间的同心圆环（如图2-3），这种干涉称为等倾干涉。

考虑半波损失，等倾干涉的光程差为：（2-5）

公式（2-5）中， 为光程差，n为平板折射率，h为平板厚度， 为折射角。