菜单
　　

    1.2.2 常用的制备方法 （1）干法制备。常用的制备方法有溅射，离子镀，离子注入等。  溅射：将氩离子在电场下加速，从而获得足够的动能，然后使其轰击靶材，当氩离子的能量超过靶极原子的结合能（约为靶极材料的升华热）四倍时，原子被推出晶格位置，成为气相逸出晶体表面的过程叫做溅射。 当用溅射技术沉积镀膜时，溅射源位于靶极，若靶材为单质，则在衬底上生产单质薄膜，若要生成化合物薄膜，则可以在溅射室有意识地引入反应气体，使之与靶材物质发生化学反应而沉积在衬底上。


  1. 上一篇：氧化镓纳米晶光电探测器制备及性能
  2. 下一篇：铝泡沫材料制备及组织研究

  1. 不同链长聚二甲基硅氧烷...

  2. 稀土元素Dy对合金涂层结构与高温性能的影响

  3. 金属氧化物对g-C3N4/TiO2复合...

  4. Bi含量对Sn-Bi/Cu界面化合物生长影响的研究

  5. 粉料尺寸对BaTiO3陶瓷烧结工艺研究

  6. 工艺参数对高硅铝合金CMT组织与性能的影响

  7. 表面预处理对水下药芯电弧切割的影响

  8. 浅析中国古代宗法制度

  9. 巴金《激流三部曲》高觉新的悲剧命运

  10. NFC协议物理层的软件实现+文献综述

  11. 江苏省某高中学生体质现状的调查研究

  12. 现代简约美式风格在室内家装中的运用

  13. 上市公司股权结构对经营绩效的影响研究

  14. C++最短路径算法研究和程序设计

  15. 高警觉工作人群的元情绪...

  16. 中国传统元素在游戏角色...

  17. g-C3N4光催化剂的制备和光催化性能研究

　　

About

优尔论文网手机版...

主页：http://www.youerw.com

关闭返回