目录
1引言.1
2PQ/PMMA材料的理论分析..2
2.1材料光化学反应过程2
2.2模型的建立4
3体积分数分析与折射指数6
4仿真与拟合7
4.1材料组分变化仿真...7
4.2影响折射率第一次谐波调制的一些因素12
4.2.1不同光强的影响13
4.2.2PQ分子扩散率以及其比例系数beta的影响.13
4.2.3光产物扩散率以及其比例系数alpha的影响.15
4.2.4不同曝光时间后的变化趋势..16
4.2.5不同空间频率对n1(t)饱和值的影响17
结论.18
致谢.20
参考文献.21
1 引言 作为一种具有诸多优点的光记录介质,光致聚合物材料的研究一直是一个热点。在这些材料中,菲醌掺杂的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)由于其独特的性能而扮演着重要的角色。这种材料可以应用于全息信息存储、太阳能聚光器等方面。 我们使用的PQ/PMMA聚合物主要是以PQ (C14H10O2)分子作为光敏剂和PMMA(C5H8O2)作为预聚合主聚合物组成,其中PQ分子质量为208 g/mol,PMMA 分子质量为100 g/mol。这种 PMMA 和用在[1,2]中的一样,还不能作为商业用途。这种聚合物是从单体中分离出来的,在此过程中,PMMA 中 MMA 浓度的浓度是很小的。当使用单一均匀的光束照射PQ/PMMA时,我们可以测得透射光强。在曝光过程中,基态 PQ分子转化成单重激发态,即1PQ*,它比基态 PQ有更低的光吸收率。然后,单重激发态 PQ转化成三重激发态论文网,即 3PQ*,它几乎不吸收光。我们的分析表明这个过程发生的非常缓慢,用 kst表示。当我们使用两束干涉的余弦光对材料进行曝光的时候,可以在材料中记录全息周期光栅。在曝光过程中,PQ 分子吸收光能而转化为激发态,三重激发态 PQ 即3PQ*可以与PMMA基体发生反应。因此,由于 PQ 分子的消耗和 PQ/PMMA 的形成,使得材料的折射率在曝光区发生变化,而在未曝光区域,由于没有光的吸收和化学反应的进行,仍然具有较高浓度的 PQ 分子。在曝光结束后,这些 PQ分子和产生的 PQ/PMMA 分子使得材料在明区和暗区的折射率呈现周期性的变化。 在本文中,我们首先在第二部分中介绍了 PQ/PMMA 材料在全息曝光时,内部主要的光化学反应和分子输运的过程。并且介绍了本文所用到的非本地效应扩散模型的建立[3,4,5] 。在第三部分中,我们对材料中组分体积分数的演变和折射率调制的变化进行了分析。基于以上的分析,在第四部分中,我们首先利用模型对实验数据进行了拟合,得到参数的范围^优尔<文|论\文>网www.youerw.com,以此为基础利用模型对影响折射率的因素进行探究,得到仿真结果,并进行分析。最后,对本文进行总结。光敏剂分子 PQ 只对特定波长的波(λ=514 nm)敏感,当用这种波长的光照射时,PQ/PMMA材料中产生9-10 种衍生物。这个过程使得材料中 PQ分子的浓度变得不均匀。PQ分子在聚合物基体中扩散使得其浓度发生变化,并且使材料的折射指数调制发生变化。我们所建立的动态模型包括三个主要的过程: