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温度控制系统：该系统是镀膜设备的核心所在，在溅射期间测量真空室的温度，并进行精确调控，他关系到膜的质量和生产效率。
人机交换界面：实现数据的转换和显示，通过外界人为的操作实现系统的安全运行和全程监控。
2.2 设备工艺流程
图1为磁控溅射镀膜设备的工艺流程图。
图1工艺流程图
3. 系统设计
本文的主要目标是设计更加精确和稳定的温度控制系统，在磁控溅射时能够准确实时的监控真空室的温度变化。考虑到系统的经济性、稳定性、精确度本文采用PLC控制系统，以STEP7为平台搭载其他控制模块来实现温度系统的精确控制。
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