摘要:  综述了透明导电氧化物(TCO) 薄膜的特性、应用及制备技术的发展, 重点讨论了磁控溅射、脉冲激光沉积、溶胶- 凝胶等制备技术和柔性衬底TCO 薄膜的制备状况、进展及发展趋势, 并指出改进TCO 薄膜制备技术的努力方向应体现完善薄膜性能、降低反应温度、提高控制精度、降低制备成本和适应集成化等趋势, 而制备方法的选择则应根据薄膜的性能要求和不同的应用目的而不同。75788

毕业论文关键词: 透明导电氧化物，p型CuAlO2薄膜，透过率，光电特性，制备工艺

Abstract:  The developments of transparent conductive oxide ( TCO) methods are described。Topics focused are magnetron sputtering, pulsed laser deposition, sol-gel and fabrication on flexible substrate。 It is put forward that the fabrication methods for TCO thin films should be improved combined with high optical and electrical properties, low fabrication temperature, low cost and good adaptability for integrate circuit。

Key words: TCO，p-type CuAlO2 thin film ，transmittance ，optical and electrical properties， fabrication method

目   录

1  引言 3

2  透明导电氧化物薄膜种类 3

3  透明导电氧化物薄膜的应用 4

3。1  平板显示器的应用 4

3。2  太阳能电池 5

3。3  透明热反射膜 5

4  透明导电氧化物薄膜的制备工艺 5

4。1　CuAlO2 的结构 5

4。2  CuAlO2薄膜的制备方法 7

4。2。1  磁控溅射法 7

4。2。2  脉冲激光沉积法（PLD） 8

4。2。3  溶胶-凝胶法 9

4。3  p型CuAlO2的性能 10

4。3。1  光学性能 10

4。3。2  电学性能 11

4。3。3  其他性能 11

4。4  讨论与展望 11

结论 13

参考文献 14

致  谢 15

1 引言

 透明导电氧化物薄膜是在功能薄膜中比较有特色的一种薄膜种类，其具有透明和导电等物理特性，在各种光电器件上广泛的应用，透明导电氧化物薄膜（transparent conductive oxide,简称TCO薄膜），既是属于金属氧化物，又是属于半导体材料，也是光学材料之一。其种类很多，但是占主导地位的还是氧化物薄膜，主要包括Sb（锑）、Zn（锌）、Cd（镉）和In（铟）的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料。透明导电氧化物薄膜最早先出现于20世纪初，1907年Badeker 第一次制成Cdo透明导电膜，从此引起了对透明导电薄膜的研究和应用。1950年前后科学家们制备出了In2O3基和SnO2基氧化物薄膜。20世纪80年代ZnO基薄膜才开始研究。这些氧化物薄膜都是重掺杂、高简并半导体，半导体机理为化学计量比偏移和掺杂剂，其禁带宽度一般都大于3 eV，而且随组分的不同而发生变化，其光学性能和导电性能都依赖金属的氧化状态及掺杂剂的数量和特性。一般具有高载流子浓度（1018到1021每立方厘米），但迁移率低，电阻率达到10-4Ω·cm量级，可见光透过率高达80%至90%[1-3]。论文网